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A corrosão seca pode ser feita em reatores chamados de RIE (corrosão por íons reativos ou reactive ion etching em inglês). Nesses reatores, o processo de corrosão é uma combinação de reações químicas e bombardeamento físico da superfície da lâmina. Em relação à corrosão RIE, analise as afirmativas abaixo e escolha a alternativa correta. I. O fotorresiste (CxHyOz) pode ser corroído usando-se oxigênio (O2) como gás, sendo que os produtos da reação envolvem óxidos de carbono (COx) e vapor de água (H2O) II. Óxido de silício (SiO2) pode ser corroído utilizando-se gás freon (CF4) e hidrogênio (H2), gerando como produtos finais um fluoreto de silício (SiF4) e oxigênio monoatômico (O) que são produtos voláteis. III. No processo de corrosão seca do fotorresiste por RIE o mecanismo preponderante de corrosão é o processo químico. IV. No processo de corrosão seca do óxido de silício por RIE, procura-se gerar através das reações químicas um polímero para proteger as paredes que não se deseja corroer. V. Injeta-se um gás como freon (CF4) em um reator RIE para se corroer SiO2, sendo que todo o processo é feito à pressão atmosférica.
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Basicamente a corrosão seca do SiO2 emprega gases fluorados como o freon 14 (CF4) que, ao ser dissociado, reage com o silício e o oxigênio do filme de SiO2. Por outro lado, filmes orgânicos (com cadeias CH) são facilmente removidos na presença de oxigênio reativo (O), pois produzem gases carbônicos (COx) e vapor de água (H2O) que são voláteis para baixas pressões (vácuo). É importante notar que todos esses processos são feitos em vácuo, para se ter um ambiente puro e também porque a descarga elétrica (plasma) que precisa ser gerada para dissociar os gases (como em uma lâmpada fluorescente) ocorrem a baixas pressões.