O processo de implantação iônica, utilizado para dopar o silício, também ocorre, só que de maneira indesejada, no processo de corrosão seca. Assinale a alternativa correta:

Na corrosão seca, de fato, pode ocorrer implantação iônica, pois temos reações químicas ocorrendo.

Na dopagem por implantação iônica, não se utiliza um processo de aceleração de íons.

No processo de corrosão por plasma, os íons não implantam no material do substrato porque não há nenhum processo de bombardeamento físico envolvido.

Na implantação iônica, não se amorfiza o material do substrato visto que as energias empregadas são muito baixas.