Partindo-se de um substrato de silício já com uma camada depositada (por exemplo SiO2), as principais etapas do processo fotolitográfico são:

O processo litografico transfere o traçado da máscara para a superfície da lâmina de silício em uma camada que não faz parte do dispositivo final, a camada de fotorresiste. Para tanto, primeiramente essa camada deve ser depositada sobre toda a lâmina para, em seguida, receber a informação dos traçados através de uma exposição luminosa seletiva (mascarada). Nesse momento diz-se que o fotorresiste foi sensibilizado e possui uma imagem latente, que está presente na sua estrutura físico-química, mas não está visível topograficamente. Essa imagem é então revelada, destacada na forma de nanoestruturas criadas no fotorresiste que se encontra na superfície da lâmina. Videoaula 3 - Fotolitografia (4min).