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Vimos que vários materiais podem ser depositados sobre a superfície de silício. Em particular, o processo de deposição CVD permite depositar dielétricos, condutores e semicondutores, mas existe um tipo de material que não pode ser depositado por meio desse processo. Este material é:
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O silício monocristalino é obtido por uma forte interação entre o material de substrato e a camada a ser depositada, sendo que no processo CVD essa interação praticamente inexiste.